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刊号CN51-1594/TQ,ISSN 1009-4369,邮发代号62-315 联系我们 | 加入收藏 | 设为首页    
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硅烷共缩合制备耐紫外光超疏水减反射涂层
作者:admin
双击自动滚屏 发布时间:2019-9-24 16:25:27 阅读:51次 【字体:

 

     常州大学石油化工学院的李怡雯等人采用四甲氧基硅烷(TMOS)和甲基三乙氧基硅烷(MTES)共缩合,并利用甲氧基三甲基硅烷〖DK(MMSDK)进行羟基封端,制备了可以稳定两个月以上的均一溶胶。通过控制MTESTMOS的水解工艺条件,采用浸渍提拉法制备了在400800 nm波段平均透光率为97.06%、最高透光率为98.27%、水接触角为165°的超疏水减反射涂层,并提出了MTES/TMOS/MMS溶胶的共缩合反应机理。涂层经过紫外光耐久测试1 080 h,涂层仍具有良好的减反射性能、疏水性和抗刻划强度,表现出良好的紫外光耐久性。

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